发明名称 device for observing align ment of wafer in ion etching apparatus
摘要 <p>본 고안은 웨이퍼의 제조 공정중 플라즈마(plasma)를 이용하여 웨이퍼를 에칭할 때 덮개를 개방하지 않고도 웨이퍼의 얼라인 상태를 챔버의 외부에서 육안으로 식별하도록 된 웨이퍼 얼라인 확인장치에 관한 것이다. 이를 위해, 챔버(1)내의 포커스 링(4)에 접속되게 척(3)에 안착되는 웨이퍼(2)의 테두리가 외부에서 식별되도록 덮개(5)에 투명창(8)이 구비되어 있으므로 얼라인상태의 불량으로 냉각가스인 헬륨이 누설(leak)되는 현상을 미연에 방지함과 동시에 덮개(5)를 개방하기 전에 챔버(1)의 내부를 크리닝할 필요가 없게 된다.</p>
申请公布号 KR200202062(Y1) 申请公布日期 2001.02.01
申请号 KR19970035327U 申请日期 1997.12.02
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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