| 发明名称 |
Process and apparatus for implanting oxygen ions silicon wafers |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU5883400(A) |
申请公布日期 |
2001.01.09 |
| 申请号 |
AU20000058834 |
申请日期 |
2000.06.22 |
| 申请人 |
IBIS TECHNOLOGY, INC. |
发明人 |
ROBERT DOLAN;BERNHARD CORDTS;MARVIN FARLEY;GEOFFREY RYDING |
| 分类号 |
H01J37/04;H01J37/317;H01L21/02;H01L21/265;H01L21/316;H01L27/12 |
主分类号 |
H01J37/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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