发明名称 冷光片之结构改良
摘要 本创作系关于一种冷光片之结构改良,其主要系于冷光片的两被覆层及冷光层间各设置一热熔胶,藉此可让冷光片在形成立体弯折图案时,其冷光层具有较大的弯折空间及较小的弯折弧度,使冷光层内由粉末材料所构成的冷光材料层不易因弯折而断裂,使冷光片能充分配合各种立体图案的成型作业,来达到降低冷光片整体生产成本,并提高冷光片成型图案美观性与变化性之效果者。
申请公布号 TW417938 申请公布日期 2001.01.01
申请号 TW087217193 申请日期 1998.10.19
申请人 吕芳正 发明人 吕芳正
分类号 H05B33/00 主分类号 H05B33/00
代理机构 代理人 林镒珠 台北市长安东路二段一一二号九楼
主权项 1.一种冷光片之结构改良,其冷光片主要系包含有两被覆层,于两被覆层间设置有一冷光层,而冷光层系设置有数层导电层及补平绝缘层,于补平绝缘层上设置有由不同粗细粉末所构成的细冷光材料层及粗冷光材料层,其特征在于:于冷光层与两被覆层间各设置有一热熔胶,并且冷光层之补平绝缘层上同时设置有至少二层以上由不同粗细粉末所构成的冷光材料层。2.如申请专利范围第1项所述的冷光片之结构改良,其中于冷光层预定形成弯折的局部部位上,同时设置有至少二层以上由不同粗细粉末所构成的冷光材料层。图式简单说明:第一图:系本创作冷光片整体结构之剖面示意图。第二图:系本创作之冷光片呈立体弯折时剖面示意图。第三图:系本创作加厚冷光层之剖面示意图。第四图:系本创作具有加厚冷光层之冷光片呈立体弯折时之剖面示意图。第五图:系本创作局部加厚冷光层之剖面示意图。第六图:系本创作将冷光片制成立体浮凸形态时之立体外观图。第七图:系习用冷光片整体结构之剖面示意图。第八图:系习用冷光层各层结构之剖面示意图。
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