| 主权项 |
1.一种滤色器,在基板上包含树脂矩阵和提供在树脂黑矩阵元素间的着色部份,其中由基材和各个树脂黑矩阵元素侧壁间形成的夹角为70至88。2.如申请专利范围第1项之滤色器,其中黑矩阵的厚度为1.0至1.4m。3.一种生产黑矩阵的制程,包含的步骤有:在基板上涂上黑色光阻;将黑色光阻进行图案曝光;将曝光后的黑色光阻显影,并将显影后的黑色光阻进行洗净处理;其中在显影步骤中使用的显影液,其pH値,温度和喷溅压力分别为10至12,26℃或更低,以及3MPa或更低,且于显影液供应终止到洗净处理开始之间的时间间隔为2秒或更低。4.如申请专利范围第3项之生产制程,其中显影液的温度至少为15℃。5.如申请专利范围第4项之生产制程,其中显影液的温度至少为20℃。6.如申请专利范围第3项之生产制程,其中显影液喷射压力至少为1MPa。7.一种生产滤色器的制程,包含的步骤有,利用喷墨系统供应墨水至,由申请专利范围第3项之生产制程形成的黑矩阵元素间的区域中,因此形成着色部份。8.一种液晶显示装置,包含如申请专利范围第1项之滤色器,相对的基材与滤色器采相对应的关系安排,且液晶包围在滤色器和相对基板的隔间中。图式简单说明:第一图显示根据本发明,利用黑矩阵生产制程形成的黑矩阵。第二图A,第二图B,第二图C和第二图D显示根据本发明,滤色器生产制程范例的流程图。第三图显示根据本发明,液晶显示装置范例的断面图。第四图显示在习知黑矩阵生产制程中,利用黑色光阻显影形成黑色抗蚀部份范例的断面图。第五图显示另一个在习知黑矩阵生产制程中,利用黑色光阻显影形成黑色抗蚀部份范例的断面图。 |
