发明名称 Method of forming fine pattern
摘要
申请公布号 EP1058155(A3) 申请公布日期 2000.12.20
申请号 EP20000111662 申请日期 2000.05.31
申请人 SEMICONDUCTOR LEADING EDGE TECHNOLOGIES, INC.;ASM JAPAN K.K. 发明人 OKABE, ICHIRO;ARAI, HIROKI
分类号 G03F7/11;G03F7/004;G03F7/09;G03F7/16;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/09 主分类号 G03F7/11
代理机构 代理人
主权项
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