| 摘要 |
<p>본 고안은 퍼니스의 각 부위를 적절히 냉각시키는 장치에 관한 것이다. 종래의 기술에 있어서는 히터(12)가 프로세스 튜브(2)에 열을 인가하는 상태에서 프로세스 튜브(2) 내에서 질화물이나 TEOS 공정 등의 확산 공정을 실시하는 경우 이 공정은 온도에 매우 민감하기 때문에, 냉각수가 과다하게 공급될 시 프로세스 튜브(2) 내에 파우더(powder)가 발생하게 되어 더 이상의 공정을 진행하지 못하게 된다. 즉, 이와 같이 프로세스 튜브(2) 내에 발생된 파우더를 제거하기 위해서는 별도의 클리닝(cleaning)을 실시해야만 이 후의 공정을 진행할 수 있다. 이에, 본 고안에서는 프로세스 튜브 내에서 확산 공정을 진행하는 동안 매니폴드(34) 및 캡핑 플랜지(44)의 온도를 항상 적절하게 유지시켜 프로세스 튜브 내에 파우더가 형성되지 않도록 한다. 따라서, 프로세스 튜브 내에 있어서 파우더로 인한 파티클(particle) 발생율을 감소시킬 수 있는 효과가 있는 것이다.</p> |
