发明名称 PLASMA PROCESSING DEVICE, WINDOW MEMBER FOR THE PLASMA PROCESSING DEVICE AND ELECTRODE PLATE FOR THE PLASMA PROCESSING DEVICE
摘要 <p>Cette invention concerne un dispositif de traitement plasmique qui comprend un conteneur de traitement ainsi qu'une première électrode disposée à l'intérieur de ce conteneur. La première électrode comporte plusieurs trous de dispersions des gaz qui permettent d'envoyer un gaz de traitement dans le conteneur de traitement, ainsi qu'une ouverture servant à mesurer la lumière. Une seconde électrode est disposée d'un côté des trous de dispersion des gaz et de l'ouverture de la première électrode de manière à en être espacée d'une certaine distance et à leur faire face. Un dispositif d'alimentation électrique applique une tension entre la première et la seconde électrodes de manière à générer un plasma entre elles. Le trajet optique d'un élément fenêtre est contact continu avec l'autre côté de l'ouverture pour mesurer la lumière. Les trous de dispersion des gaz sont formés selon un réseau prédéterminé, et l'ouverture est formée distinctement des trous de dispersion des gaz à l'écart de leur réseau. Le dispositif de traitement plasmique peut fournir un gaz de traitement uniforme dans le conteneur de traitement indépendamment de la disponibilité de l'ouverture utilisée comme fenêtre de contrôle et du trajet optique, ce qui permet d'effectuer un traitement plasmique uniforme.</p>
申请公布号 WO2000075973(P1) 申请公布日期 2000.12.14
申请号 JP2000003543 申请日期 2000.06.01
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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