发明名称 有机电致发光玻板的清洗方法和装置
摘要 本发明涉及一种有机电致发光玻板的清洗方法和装置,首先将被清洗的玻板置于真空腔内,通入高纯氧气流,用离子束以一定角度轰击玻板。本发明的清洗装置为一真空腔,被清洗玻片置于真空腔内上部的支架上,真空腔下部的一侧为离子源,离子源与样品之间设有挡板。本方法和装置用于清洗的离子束以一定角度入射,降低了被清洗玻片的表面粗糙度和表面污染物的含量,不会对玻片产生腐蚀,且制备成本低。
申请公布号 CN1276697A 申请公布日期 2000.12.13
申请号 CN00120790.3 申请日期 2000.07.14
申请人 清华大学 发明人 邱勇;张德强;董桂芳
分类号 H05B33/10;B08B11/04 主分类号 H05B33/10
代理机构 清华大学专利事务所 代理人 罗文群
主权项 1、一种有机电致发光玻板的清洗方法,其特征在于,该方法包括以下各步骤:a)将被清洗的玻板置于压力为1×10-3Pa的真空腔内,通入高纯氧气流,使环境压力维持在8×10-3Pa~3×10-2Pa;b)用离子束以一定角度轰击玻板,轰击的角度为30°~60°,轰击时使束流密度控制在1uA/cm2~10mA/cm2的范围,轰击时离子能量为0.5eV~200eV,作用时间为5秒~60秒,即完成本发明的清洗过程。
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