发明名称 | 有机电致发光玻板的清洗方法和装置 | ||
摘要 | 本发明涉及一种有机电致发光玻板的清洗方法和装置,首先将被清洗的玻板置于真空腔内,通入高纯氧气流,用离子束以一定角度轰击玻板。本发明的清洗装置为一真空腔,被清洗玻片置于真空腔内上部的支架上,真空腔下部的一侧为离子源,离子源与样品之间设有挡板。本方法和装置用于清洗的离子束以一定角度入射,降低了被清洗玻片的表面粗糙度和表面污染物的含量,不会对玻片产生腐蚀,且制备成本低。 | ||
申请公布号 | CN1276697A | 申请公布日期 | 2000.12.13 |
申请号 | CN00120790.3 | 申请日期 | 2000.07.14 |
申请人 | 清华大学 | 发明人 | 邱勇;张德强;董桂芳 |
分类号 | H05B33/10;B08B11/04 | 主分类号 | H05B33/10 |
代理机构 | 清华大学专利事务所 | 代理人 | 罗文群 |
主权项 | 1、一种有机电致发光玻板的清洗方法,其特征在于,该方法包括以下各步骤:a)将被清洗的玻板置于压力为1×10-3Pa的真空腔内,通入高纯氧气流,使环境压力维持在8×10-3Pa~3×10-2Pa;b)用离子束以一定角度轰击玻板,轰击的角度为30°~60°,轰击时使束流密度控制在1uA/cm2~10mA/cm2的范围,轰击时离子能量为0.5eV~200eV,作用时间为5秒~60秒,即完成本发明的清洗过程。 | ||
地址 | 100084北京市海淀区清华园 |