| 主权项 |
1.一种在活化能射线照射及加热后具有使用硷性 水溶液可显影能力之正光阻性组成物,包含 : (A)100份重的聚合物,其平均分子量介于1,000-50,000, 其中该聚合物系使用沸点介于30℃ 至200℃间的单乙烯醚化合物与具有固态成份酸値 在60-300mg KOH/g的聚羧酸树脂反应得到 的,该反应中单乙烯醚化合物对聚羧酸树脂的羧基 的加成率在50至100间, (B)2至40份重的(以100份重的聚合物(A)为基准计)一 种在受到活化能射线照射时能产生酸的 化合物,及 (C)10至2000份重的(以100份重的聚合物(A)为基准计) 一种有机溶剂, 其中该聚羧酸树脂系选自:含带羧基的可聚合不饱 和单体之均聚合物、含带羧基的可聚合不 饱和单体与其它可共聚合单体之共聚合物、以酸 酐与聚醇加成后所形成的树脂、含羧基之聚 酯、含羧基之聚氨酯型、含羧基之聚醯胺羧基,及 该单乙烯醚化合物系选自:乙烯基甲基醚 、乙烯基乙基醚、乙烯基异丙基醚、乙烯基n-丙 基醚、乙烯基异丁基醚、乙烯基n-丁基-醚 、乙烯基t-丁基醚、乙烯基n-戊烷基醚、乙烯基异 戊烷基醚、乙烯基n-十八基醚、乙烯基环 己基醚、乙二醇单丁基乙烯醚及三甘醇单甲基乙 烯基醚。2.如申请专利范围第1项之组成物,其中该 聚羧酸树脂系含8-40%重量丙烯酸或甲基丙烯酸的 共聚合物,其余为可共聚合的单体。3.如申请专利 范围第1或2项之组成物,其中该可共聚合单体系选 自:未取代或取代的苯乙烯 、烷基丙烯酸酯、烷氧基烷基丙烯酸酯、羟基烷 基丙烯酸酯、烷基甲基丙烯酸酯、烷氧基烷 基甲基丙烯酸酯、羟基烷基甲基丙烯酸酯、烷基 琥珀酸酯、烷氧基烷基琥珀酸酯、羟基烷基 琥珀酸酯、聚(烷二醇)单丙烯酸酯、聚(烷二醇)单 甲基丙烯酸酯、乙烯酯、烯烃类及丙烯酸 睛类。4.如申请专利范围第1或2项之组成物,其中 该化合物(B)系选自:芳族偶氮ccim 盐、芳族碘 ccim盐、芳族溴ccim盐、芳族氯ccim盐、芳族硫ccim盐 、硒ccim盐、嘧啶ccim盐、硫胺嘧啶 ccim盐、 啶ccim盐、三(三卤甲基)-s-三rqkd、2-[2-(5- 甲基喃-2-基)乙烯基]-4,6-二( 三氯甲基)-s-三rqkd、2-[2-(喃-2-基)乙烯基]-4,6-二( 三氯甲基)-s-三rqkd、2-(4-甲氧 苯基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三rqkd、及甲基-4,6-二(三 氯甲基)-s-三rqkd;2-硝基甲苯磺 酸酯;氨基磺酸酯;1-氧代-2-重氮-4-磺酸酯衍生 物、N-羟基硫亚氨=磺酸酯;三(甲烷 硫醯氧基)苯衍生物;二硫醯基重氮甲烷;硫醯基羰 基烷烃;硫醯基羰基重氮甲烷;二硫醯 化合物;及丙二烯铁错合物。5.如申请专利范围第1 或2项之组成物,其中该化合物(B)系选自以式(A)至(L )所代表的化合 物, 其中R2与R3各自代表氢原子、t-丁基、辛氧基或十 五氧基,R4代表氢原子、甲基或甲氧基, R5代表甲基或丁基,R6代表低阶烷基,如甲基、乙基 及丙基,而X-代表卤素原子离子、BF4- 、BCl4-、SbCl6-、FeCl4-、GaCl4-、GaBr4-、AlCl4-、ASF6-、 SbF6-、CF3SO4-、PF6-、 ClO4-、BPh4-、缩合聚核芳族磺酸、磺酸之阴离 子、磺酸之阴离子、及含有磺酸基的 染料。6.如申请专利范围第1或2项之组成物,其中 另外包括一种能在酸性范围内变色的pH显示剂。7. 如申请专利范围第1或2项之组成物,其中另外包括 一种增感染料。8.如申请专利范围第1或2项之组成 物,其中另外包括一种无机填剂。9.如申请专利范 围第1或2项之组成物,其中另外包括至少一种选自 下列的添加剂:色素、染 料、热聚合物抑制剂、增稠剂、防沫剂、匀染剂 及偶联剂。10.一种在制造印刷电路板的方法用以 形成蚀刻保护层模的制备方法,其中包含的步骤有 : 将申请专利范围第1-4项任一项中之光阻性组成物 涂敷在覆铜层压基板上,以热乾燥该组成 物涂层以形成无黏性的覆膜,用活化能射线,选择 性的照射覆膜,将受照射的覆膜加热,并 用弱硷性水溶液将覆膜显影以去除该覆膜受光照 之部位,其中该加热程序系在60℃-150℃的 温度下进行10-60分钟。 |
