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发明名称 METHOD FOR FORMING RESISTOR PATTERN AND RESISTOR PATTERN
摘要
申请公布号 KR100272797(B1) 申请公布日期 2000.12.01
申请号 KR19930001189 申请日期 1993.01.30
申请人 SORTEC CORPORATION 发明人 DANAKA, DOSHIHIRO;MORIGAMI, MISAKI;HIGASHIGAWA, IWAO;WATANABE, DAKEO
分类号 G03F7/32;B81C99/00;H01L21/027;H01L21/30;H01L21/47;(IPC1-7):H01L21/47 主分类号 G03F7/32
代理机构 代理人
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