发明名称 device exclusion particle stuck the surface wafer
摘要 <p>본 고안은 웨이퍼 표면에 부착된 파티클 제거장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 웨이퍼 표면에 부착된 파티클(이물질)을 웨이퍼의 공정간 로딩중에 진공흡착하여 양질의 웨이퍼를 얻을 수 있도록 한 것이다. 이를 위해, 웨이퍼(1)의 공정간 이동경로상에 단일 또는 복수개의 진공흡착기(4)를 설치하여, 진공흡착기(4)의 가동에 따른 흡착력에 의해 웨이퍼(1)의 공정간 로딩중에 파티클(3)이 제거되도록 한 것이다.</p>
申请公布号 KR20000018950(U) 申请公布日期 2000.10.25
申请号 KR19990005240U 申请日期 1999.03.31
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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