发明名称 半导体晶圆真空处理装置用之铰链
摘要 本创作系有关于一种半导体晶圆真空处理装置用之铰链之新式样设计,整体造形予人安全坚固之感受。本创作主表用途系安装在制造半导体晶圆的真空处理装置的开关盖,于本体内定期乾洗,或是换装加热器等维修之际,使用做自由转动的枢支该开关盖者。主体外形系由上方为平直状,下方为半圆形状之块体所形成的,位于主体的正背面部各设有三个圆形凸部,且于凸部的两边设有四个圆孔,另外,其中位于正面的上方系延伸出一长轴,该长轴上设有两固圆孔,而于背面下方亦延伸出一较短之轴部,该轴部上亦设有一圆孔。综上所述,整体无论外形或组装及安全性上均予人快速安全之感受,确为一极富科技美感之理想设计。
申请公布号 TW410137 申请公布日期 2000.10.21
申请号 TW087302850 申请日期 1998.04.20
申请人 东京威力科创有限公司 发明人 水上正已
分类号 主分类号
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 如图所示半导体晶圆真空处理装置用之铰链之形 状。图式 简单说明:第一图系本创作半导体晶圆真空处理装 置用之 铰链之前视图。第二图系本创作半导体晶圆真空 处理装置 用之铰链之右侧视图。第三图系本创作半导体晶 圆真空处 理装置用之铰链之俯视图。第四图系本创作半导 体晶圆真 空处理装置用之铰链之仰视图。第五图系本创作 半导体晶 圆真空处理装置用之铰链之后视图。第六图系本 创作半导 体晶圆真空处理装置用之铰链之左侧视图。第七 图系本创 作半导体晶圆真空处理装置用之铰链之立体图。
地址 日本