发明名称 | 用于玻璃熔体流的真空脱气法 | ||
摘要 | 在压力P[mmHg]下将玻璃熔体输入真空室,使玻璃熔体所受的压力在38[mmHg]-(P-50)[mmHg]范围,对玻璃熔体进行脱气时,玻璃熔体在真空室中的停留时间在0.12—4.8小时范围,从而可达到对玻璃熔体有效脱气的作用。 | ||
申请公布号 | CN1270148A | 申请公布日期 | 2000.10.18 |
申请号 | CN00106822.9 | 申请日期 | 2000.04.13 |
申请人 | 旭硝子株式会社 | 发明人 | 河口年安;大林浩治;冈田操;竹居祐辅 |
分类号 | C03B5/16;C03B5/225;B01D19/00 | 主分类号 | C03B5/16 |
代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 周承泽 |
主权项 | 1.一种用于玻璃熔体的真空脱气法,该方法包括下列步骤:在压力P[mmHg]下将玻璃熔体输入真空室,使玻璃熔体受到的压力在38[mmHg]-(P-50)[mmHg]范围,对玻璃熔体进行脱气,在压力P[mmHg]下以Q[吨/小时]的流量从真空室排出经脱气的玻璃熔体,玻璃熔体在真空室中的停留时间在0.12-4.8小时范围,停留时间是将真空室中流动的玻璃熔体重量W[吨]除以玻璃熔体流量Q[吨/小时]获得的。 | ||
地址 | 日本东京 |