发明名称 核子反应炉容器
摘要 一种核子反应炉容器,其具有一阻板桶总成,用于在该反应炉容器之使用过程中,支撑位于该组板桶总成之核心区域内之复数个燃料总成,并引导冷却剂流经该核心区域。该阻板总成包括一阻板,藉由一螺栓固定于一模型板。该阻板具有一埋头孔,延伸至一直径较小之阻板孔。该模型板具有一螺栓孔,对准该阻板孔。该螺栓具有一头部,位于该埋头孔内;及一柄,自该头部之底面延伸入该等相互对准之螺栓孔内,并以螺纹与该模型板接合。在螺栓之头部或在螺栓头部与该阻板之间设有一孔(或槽),穿过或沿该螺栓之头部,延伸于该柄之外部,用于使冷却剂流经该螺栓头部之底面,及该底面与该阻板所形成之缝隙,如此一来,有可能形成于该螺栓底部之蒸汽便易于流通,由停滞之冷却剂所形成之沉积微粒及由蒸汽所带来之沉淀物则均可自该螺栓头部之底面及相邻之缝隙中洗出,而该螺栓之头部则可获得冷却。由于该柄并不具有供冷却剂流通之轴孔或其他通道,因此该柄极易进行超音波测试,而其强度亦不致折损。运转中之反应炉容器不必移除及分解阻板总成,即可进行新零件之替换。
申请公布号 TW408341 申请公布日期 2000.10.11
申请号 TW088110330 申请日期 1999.06.21
申请人 西屋电器公司 发明人 理察E.史奇威莱恩
分类号 G21C13/00 主分类号 G21C13/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种核子反应炉容器,其具有一阻板桶总成,用于在该反应炉容器之使用过程中,支撑一核心区域内之复数个燃料总成,并引导流体流经该核心区域,包括:一阻板,构成一具有直径之埋头孔,及一直径较小之阻板螺栓孔,延伸自该埋头孔;一模型板,构成一螺栓孔,对准该阻板螺栓孔;及一螺栓,用于将该两板固定为一体,该螺栓具有一头部,位于该埋头孔内,该头部具有一底面;及一柄,自该头部之底面延伸至该等相互对准之螺栓孔内;该螺栓头部至少构成一流体流动通道之一部份,该通道系位于该柄之外部,并连接该埋头孔与该阻板螺栓孔。2.如申请专利范围第1项之容器,其中该螺栓头部至少构成复数个彼此分离之流体流动通道之一部份,该等通道系延伸于该柄之外部。3.如申请专利范围第1项之容器,其中该螺栓构成一第二流体流动通道,穿过该头部,并延伸于该柄之内部,可与该埋头孔及该等相互对准之螺栓孔相通,供流体流动。4.如申请专利范围第1项之容器,其中该流体流动通道包括一孔口,该孔口之局部系由该阻板所构成。5.如申请专利范围第1项之容器,其中该流体流动通道完全系由该螺栓头部所构成。6.如申请专利范围第1项之容器,其中该模型板构成一流体流动通道,延伸自该阻板内之流体流动通道,并延伸至该等相互对准之螺栓孔。7.如申请专利范围第1项之容器,尚包括一锁紧杯,该锁紧杯具有一第一部份,结合于该螺栓头部;及一第二部份,突出于该流体流动通道内,用于在该容器之使用过程中,限制该螺栓之转动。8.一种核子反应炉容器,其具有一阻挡桶总成,用于在该反应炉容器之使用过程中,支撑一核心区域内之复数个燃料总成,并引导流体流经该核心区域,包括:一阻板,构成一具有直径之埋头孔,及一直径较小之阻板螺栓孔,延伸自该埋头孔;一模型板,构成一螺栓孔,对准该阻板螺栓孔;一螺栓,用于将该两板固定为一体,该螺栓具有一头部,位于该埋头孔内,该头部具有一底面;及一柄,自该头部之底面延伸至该等相互对准之螺栓孔内;及一装置,用于在该柄之外部,连接该埋头孔及该阻板螺栓孔。9.如申请专利范围第8项之容器,其中该装置包括复数个彼此分离之流体流动通道。10.如申请专利范围第8项之容器,其中该螺栓构成一第二流体流动通道,穿过该头部,并延伸于该柄之内部,可与该埋头孔及该等相互对准之螺栓孔相通,供流体流动。11.如申请专利范围第8项之容器,其中该装置包括一孔口,该孔口之局部系由该阻板所构成。12.如申请专利范围第8项之容器,尚包括有装置,突出于该联结装置内,用于限制该螺栓之转动。13.一种为核子反应炉容器替换新零件之方法,该核子反应炉容器具有一阻板,藉由一现有之阻板/模型板螺栓,固定于一模型板;该螺栓具有一头部,位于该阻板之一埋头孔内,该头部具有一底面;及一柄,延伸自该底部,并穿过该阻挡板上与一模型板上相互对准之孔;该方法包括下列步骤:将该核子反应炉容器停止使用;然后替换现有之阻板/模型板螺栓,用于替换之阻板/模型板螺栓具有一头部,其至少构成一流体流动通道之一部份,该通道系位于该柄之外部,并连接该埋头孔及该模型板螺栓孔;藉由此一方法,在该反应炉容器之使用过程中流经该反应炉容器之流体将冲洗该螺栓头部之底面。14.如申请专利范围第13项之方法,其中该流体流动通道之形成方法为:机制一通道,自该埋头孔延伸至该阻板螺栓孔。15.如申请专利范围第14项之方法,其中两彼此分离之流体流动通道系以下列方法形成:机制两通道,其具有不同之断面积,自该埋头孔延伸至该阻板螺栓孔。16.如申请专利范围第14项之方法,其中该流体流动通道具有一尺寸长度,延伸自该埋头孔;并包括下列步骤:机制一第二流体流动通道,延伸自该阻板上之埋头孔,该第二流体流动通道具有一不同之尺寸长度。17.如申请专利范围第14项之方法,包括下列步骤:将该阻板上之通道延伸至该模型板内。18.如申请专利范围第13项之方法,其中该流体流动通道之形成方法为:将用于固定该阻板与该模型板之现有螺栓加以替换,用于替换之螺栓具有一头部,该流体流动通道即机制于该头部内。
地址 美国