| 主权项 |
1.一种电浆处理装置,系使用电浆而对被处理体施予处理的装置,包含:一气密性处理室;一载置台,系在前述处理室内,具有欲支 前述被处理体之支 面;一上部排气系统及下部排气系统,系作前述处理室内之排气,同时,用以设定前述处理室内为真空,而前述该两排气系统,乃将前述处理室内之气体,各别向上方及下方流出;一上部排气室,系配置在前述处理室之上侧;以及一上部排气孔,系在前述处理室与前述上部排气室之间的上部区隔板所形成的多数之排气孔;一气体供给系统,系供给处理气体至前述处理室内;一供给口,系在前述载置台的上方开口,并且前述上部排气孔配设成如同包围该供给口;一电场产生系统,系使前述处理气体经由放电,而在前述处理室内产生用以形成电浆之电场;及,一控制器,系欲使前述上部及下部排气系统,予以连动之。2.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其前述气体供给系统的构成特征在于具有:一喷射头,系配设在前述载置台之上方;以及一分散板,系前述喷射头乃有由多数之供给孔所形成之该板,而始具有作为前述供给口之机能。3.如申请专利范围第2项之电浆处理装置,其特征在于:前述上部区隔板与前述分散板,系形成为规制前述处理室之天井的一张天井板。4.如申请专利范围第3项之电浆处理装置,其前述处理室之构成特征在于:前述处理室,除前述载置台的前述支 面之外,其余即由以一体性连续之内壁面,而露出在前述处理室内的中央外壳组件所规制,并设定前述内壁面的电位,在实质上成为等效。5.如申请专利范围第4项之电浆处理装置,其构成特征在于:前述上部排气室及前述喷射头,系由前述中央外壳组件,及将前述中央外壳组件与上部外壳组件组合成为分离可能,而以气密性形成之。6.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其前述下部排气系统的构成特征在于备有:一下部排气室,系配设在前述处理室之下侧;一闸门,系欲将前述被处理体,搬出入于前述下部排气室而配设之;以及一移动机构,系由于前述载置台作上下移动,乃使前述支 面可在前述下部排气室内之下侧位置处,与在前述处理室内之上侧位置处之间,能移动。7.如申请专利范围第6项之电浆处理装置,其前述下部排气系统之构成特征在于含有:一下部排气孔,系由在前述处理室与前述下部排气室之间的下部区隔板所形成之多数排气孔。8.如申请专利范围第7项之电浆处理装置,其处理室之构成特征在于:前述处理室,系由除前述载置台的前述支 面外,其余均由一体性连续的内壁面,予以露出在前述处理室内的中央外壳组件所规划,并设定前述内壁面的电位,在实质上成为等效。9.如申请专利范围第8项之电浆处理装置,其前述下部排气室的构成特征在于:前述下部排气室,系由前述中央外壳组件,以及将前述载置台予以包围,并且与前述中央外壳组件,组合成为分离可能的下部外壳组件,以气密性形成之。10.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其前述控制器之作用特征在于:当前述控制器于施予前述处理之际,欲维持前述上部及下部排气系统的排气量之差为一定,而控制前述上部及下部排气系统。11.如申请专利范围第10项之电浆处理装置,其前述上部及下部排气系统的构成特征在于具有:一压力调整阀,系在前述上部及下部排气系统,分别具有上部压力调整阀,及下部压力调整阀,而当前述控制器施予前述处理之际,欲维持前述上部及下部压力调整阀之开度差为一定,乃控制前述上部及下部排气系统。图式简单说明:第一图系表示有关本发明实施例的电浆处理装置之电浆刻蚀的概略构成图;第二图系表示分解第一图所示之装置的概略截面图;第三图系表示沿着第二图的Ⅲ-Ⅲ线,而从处理室侧观看上部排气室侧的情形之概略截面图;第四图系表示沿着第二图的Ⅲ-Ⅲ线,而从处理室侧观看下部排气室侧的情形之概略截面图;第五图系表示欲将第一图所示之装置的外壳组件,予以分离之机构的概略透视图;第六图系使用第五图所示之机构,而表示将第一图所示之装置的外壳组件,予以分离之状态的概略透视图;第七图系表示有关本发明别实施例的电浆处理装置之电浆刻蚀装置之概略构成图;第八图系表示于第七图所示之装置上的控制处理压力之方法的流程图;第九图A、第九图B系表示于第七图所示之装置的处理室内,其气体之流动状态;第十图系表示有关本发明又另一实施例的电浆处理装置之电浆刻蚀装置的概略构成图;第十一图系表示习知的电浆刻蚀装置之概略构成图。 |
