FABRICATION METHOD FOR CONTACT WINDOW OF SEMICONDUCTOR DEVICE,申请号KR19980032753-传众专利搜索

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发明名称	FABRICATION METHOD FOR CONTACT WINDOW OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号	KR100265773(B1)	申请公布日期	2000.09.15
申请号	KR19980032753	申请日期	1998.08.12
申请人	SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.	发明人	PONG, CHIL KUN;JIN, JOO HYUN
分类号	H01L21/28;H01L21/311;H01L21/768;H01L21/8242;H01L27/108;(IPC1-7):H01L21/28	主分类号	H01L21/28
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