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发明名称 POSITIV-PHOTORESIST
摘要
申请公布号 AT195590(T) 申请公布日期 2000.09.15
申请号 AT19950810395T 申请日期 1995.06.13
申请人 CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC. 发明人 TANG, QIAN, DR.;ROTH, MARTIN, DR.
分类号 C08K5/02;C08K5/22;C08K5/36;C08L33/02;C08L33/04;C08L33/14;C08L35/02;G03F7/004;G03F7/039;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/039 主分类号 C08K5/02
代理机构 代理人
主权项
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