| 主权项 |
1.一种真空复层玻璃,由一玻璃基板,以及一与上述玻璃基板外围密接而中间固定维持一间隙之玻璃盖板,共同构成一密封的真空内室,其特征在于:上述基板系一体延伸多数突点形成衬垫以抵抗内室真空状态时之大气所施予的表面压力。2.如申请专利范围第1项所述之真空复层玻璃,其中上述基板与上述盖板为平板状构造。3.如申请专利范围第1项所述之真空复层玻璃,其中上述基板与上述盖板为曲板状。4.如申请专利范围第1项所述之真空复层玻璃,其中上述各衬垫系呈矩阵式分布。5.如申请专利范围第1项所述之真空复层玻璃,其中各上述衬垫的最大径度在0.1-0.5mm间。6.如申请专利范围第1项所述之真空复层玻璃,其中各上述衬垫的高度在0.01-0.2mm间。7.如申请专利范围第1项所述之真空复层玻璃,其中上述各衬垫彼此距离10-100mm。8.一种形成真空复层玻璃基板的方法,包括:a.净化一玻璃基板,使适于表面蚀刻;b.蚀刻前述玻璃基板的大部份表面,使留下多数点不予蚀刻以作为支撑的衬垫,其余的大部份面积则形成凹陷空间;c.结合另一玻璃盖板,使得其间可形成一密闭的空间,并由前述的衬垫支撑着;d.将前述形成的空间内,密接前述玻璃基板的周缘并抽除空气使前述密闭空间保持被抽除空气的状态。9.如申请专利范围第8项所述之形成真空复层玻璃基板的方法,其中上述净化玻璃的步骤包括:脱脂、除尘、电解及洗净。10.如申请专利范围第8项所述之形成真空复层玻璃基板的方法,其中上述玻璃基板表面在蚀刻前,系先涂布光阻层以形成光阻。11.如申请专利范围第10项所述之形成真空复层玻璃基板的方法,其中上述涂布光阻层的方法为浸涂、滚涂、旋转涂布其中之一。12.如申请专利范围第8项所述之形成真空复层玻璃制基板的方法,其中上述玻璃基板表面在蚀刻前还包括藉光罩定义上述多数衬垫布置点,该光罩并藉CAD/CAM形成光罩底片后,置于上述玻璃基板上曝光制版再予显影。13.如申请专利范围第10项所述之形成真空复层玻璃基板的方法,其中上述玻璃基板表面在蚀刻前,系先涂布光阻层以形成光阻。14.如申请专利范围第12或13项所述之形成真空复层玻璃基板的方法,其中上述曝光制版之媒介为紫外线。15.如申请专利篱围第12或13项所述之形成真空复层玻璃基板的方法,其中上述显影实施在多数衬垫布置点周边的玻璃基板上。16.如申请专利范围第12或13项所述之形成真空复层玻璃基板的方法,其中上述显影并藉显像液使上述多数衬垫布置点的周边光阻剂脱落。17.如申请专利范围第8项所述之形成真空复层玻璃基板的方法,其中上述蚀刻系采蚀刻机喷蚀法。18.如申请专利范围第12项所述之形成真空复层玻璃制基板的方法,其中上述玻璃基板表面在蚀刻前还包括藉光罩定义上述多数衬垫布置点,该光罩并藉CAD/CAM形成光罩底片后,置于上述玻璃基板上曝光制版再予显影。19.如申请专利范围第13项所述之形成真空复层玻璃基板的方法,其中上述玻璃基板表面在蚀刻前,系先涂布光阻层以形成光阻。20.如申请专利范围第8.12.17.18项或第19项所述之形成真空复层玻璃基板的方法,其中上述蚀刻之媒介为氢氟酸蚀刻液。图式简单说明:第一图系PCT/AU90/00364所示玻璃衬垫制法图例。第二图系US PATENT 4683154所示玻璃衬垫制法图例。第三图A系本案在玻璃基板上涂布光阻层断面图;第三图B系第三图A光阻层紧贴光罩底片之断面图,该光罩底片有多数衬垫布置点;第三图C系第三图B移去底片后,在光阻脱落区域蚀刻之断面图;第三图D系第三图C蚀刻后在衬垫上被覆盖板的断面图;第三图E系第三图D封边且真空抽气后之断面图。第四图系本案真空复层玻璃之立体局部剖开图。 |
