发明名称 DEVICE AND METHOD FOR THERMALLY TREATING SUBSTRATES
摘要 <p>Eine verbesserte thermische Homogenität wird bei einer Vorrichtung und einem Verfahren zum thermischen Behandeln von Substraten, bei dem das Substrat mit einer Heizplatte beheizt wird, dadurch erreicht, dass die Heizplatte über eine Vielzahl von separat ansteuerbaren Heizelementen aufgeheizt, die Temperatur der Heizelemente gemessen, der Aufheizvorgang mit einem PID-Regler geregelt, die Temperatur der von der Heizplatte abgewandten Oberfläche des Substrats ortsaufgelöst gemessen, die Temperaturverteilung auf der Substratoberfläche in Abhängigkeit von den gemessenen Temperaturen ermittelt und Temperatur-Sollwerte für die einzelnen Heizelemente ermittelt und an den PID-Regler weitergeleitet werden.</p>
申请公布号 WO2000051170(A1) 申请公布日期 2000.08.31
申请号 EP2000000816 申请日期 2000.02.02
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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