| 发明名称 |
Charged particle ray exposure device and method of manufacturing semiconductor device |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
AU2462600(A) |
申请公布日期 |
2000.08.29 |
| 申请号 |
AU20000024626 |
申请日期 |
2000.02.15 |
| 申请人 |
NIKON CORPORATION |
发明人 |
ATSUSHI YAMADA;KOICHI KAMIJO |
| 分类号 |
H01L21/027;G03F7/20;H01J37/147;H01J37/153 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
