发明名称 石英处理管(二)
摘要 本创作系有关于一种「石英处理管(二)」之新式样设计。本新式样所针对之物品,由附图显示其使用状态之参考图可知,是一种用于扩散装置,尤其是作纵形热处理装置之反应器用的石英处理管。上述之纵形热处理装置是用以对被处理物之半导体晶圆供应反应气体而藉其扩散在晶圆表面形成期望之薄膜者,系由;具有用以收容半导体晶圆之反应空间的本案物品(即石英处理管)、用以将反应容器内加热至预定处理温度的加热器、用以固持该加热器并予以绝热之绝热材及包覆于该绝热材外围之外壳所构成。于此,半导体晶圆系以多数片载置于石英承载皿上,上下相隔一定间隔,石英承载皿由保温筒所支承。石英承载皿可藉承载皿昇降机之昇降而搬入及搬出石英处理管,石英处理管下端开口部系藉由一随承载皿昇降机昇降之石英盖开闭,而本新式样所针对物品之石英处理管则系由透明石英所构成,沿其内周有二根反应气体导入管一直延伸至顶部附近,另有一根排放管贯穿其内侧之顶部,同时在其内部则有二根前端封闭之导管沿长向一直沿伸至顶部,其中并分别插入了热电偶端子以检测石英处理管内之温度。上述说明仅供辅助了解本创作而非用以限制其内容;理应明了,新式样系就其整体形状、花纹、或色彩指定之,且系以申请专利范围所界定者为准。
申请公布号 TW403597 申请公布日期 2000.08.21
申请号 TW087301012 申请日期 1998.02.18
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 岛津知久
分类号 主分类号
代理机构 代理人 陈文郎 台北巿南京东路三段二四八号七楼
主权项 一种如图所示「石英处理管(二)」之形状者。第 一图所示 系本创作之立体图;第二图所示系本创作之前视图 ;第三 图所示系本创作之后视图;第四图所示系本创作之 俯视图 ;第五图所示系本创作之仰视图;第六图所示系本 创作之 右侧视图;第七图所示系本创作之左侧视图;第八 图所示 系本创作之A-A线之截面图;第九图所示系本创作之 B-B线 之截面图;第十图所示系本创作之C-C线之截面图; 以及 第十一图所示系本创作之使用状态参考图。
地址 日本