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发明名称 CHAMBER ETCHING OF PLASMA PROCESSING APPARATUS
摘要
申请公布号 KR100260775(B1) 申请公布日期 2000.08.01
申请号 KR19960063831 申请日期 1996.12.10
申请人 NEC CORPORATION 发明人 USAMI, TATSUYA
分类号 H05H1/46;C23C16/40;C23C16/44;C23C16/50;C23C16/511;H01J37/32;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/302 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
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