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发明名称 METHOD OF CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF METAL FILMS
摘要
申请公布号 EP1021589(A1) 申请公布日期 2000.07.26
申请号 EP19980952123 申请日期 1998.10.07
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED;TOKYO ELECTRON LTD 发明人 ARENA, CHANTAL;BERTRAM, RONALD, T.;GUIDOTTI, EMMANUEL;HILLMAN, JOSEPH, T.
分类号 C23C16/18;C23C16/44;(IPC1-7):C23C16/18 主分类号 C23C16/18
代理机构 代理人
主权项
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