| 发明名称 |
DIFFUSION SYSTEM USE IN MANUFACTURING PROCESS SEMICONDUCTOR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR200185285(Y1) |
申请公布日期 |
2000.06.15 |
| 申请号 |
KR19990030680U |
申请日期 |
1999.12.31 |
| 申请人 |
ANAM SEMICONDUCTOR., LTD. |
发明人 |
JEONG, YONG-HWA |
| 分类号 |
H01L21/22;(IPC1-7):H01L21/22 |
主分类号 |
H01L21/22 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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