发明名称 防止堆叠电容器的部件间相互作用的延伸沟槽
摘要 根据本发明的堆叠电容器包括设置于沟槽内的连接存取器件的导电栓塞。阻挡层形成于该栓塞上,并设置于沟槽内。介质层形成于沟槽之上,穿通电介层形成有孔,从而至少露出阻挡层的一部分。第一电极形成于孔内,从孔延伸出。电容器介质层形成于第一电极上,隔开第一电极与第二电极,所说介质层和第一电极基本上防止了阻挡层材料和电容器介质层材料及形成电容器介质层时所用的氧化环境间的化学作用。还涉及一种制造方法。
申请公布号 CN1256518A 申请公布日期 2000.06.14
申请号 CN99126739.7 申请日期 1999.12.10
申请人 西门子公司 发明人 C·林;A·克诺尔
分类号 H01L27/10;H01L21/82;H01L21/8239 主分类号 H01L27/10
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 邹光新;王忠忠
主权项 1.一种堆叠电容器,包括:设置于沟槽内连接到存取器件的导电栓塞;形成于栓塞上且设置于沟槽内的阻挡层;形成于沟槽之上的介质层,穿通该介质层形成有孔,以至少露出阻挡层的一部分;形成于所说孔内并从孔延伸出的第一电极;形成于第一电极上隔开第一电极与第二电极的电容器介质层;介质层和第一电极基本上防止了与阻挡层材料化学作用。
地址 联邦德国慕尼黑