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发明名称 Plasma chemical vapor deposition apparatus
摘要
申请公布号 EP0955665(A3) 申请公布日期 2000.06.07
申请号 EP19990100754 申请日期 1999.01.16
申请人 MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD. 发明人 MURATA, MASAYOSHI;TAKEUCHI, YOSHIAKI;MASHIMA, HIROSHI;TAKANO, AKEMI;YOSHIDA, HIROHISA
分类号 C23C16/50;H01J37/32;H01L21/205;H01L31/04;(IPC1-7):H01J37/32 主分类号 C23C16/50
代理机构 代理人
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