发明名称 Reduction projection objective lens for microlithography
摘要 Objektiv mit mehr als 10, insbesondere mehr als 17 Linsen (1-35), korrigiert bei einer Wellenlänge unter 200 nm, enthaltend Linsen (18, 23, 26) aus Quarzglas, dadurch gekennzeichnet, daß die Summe der Brechkräfte der Linsen (18, 23, 26) aus Quarzglas negativ ist. Quarzglas wird also als Flint verwendet. Als Kron dient Fluorid, besonders CaF2, LiF, BaF oder SrF. Refraktive und katadioptrische Reduktions-Projektionsobjektive für 193 nm und 157 nm werden vorgestellt. <IMAGE>
申请公布号 EP1006388(A2) 申请公布日期 2000.06.07
申请号 EP19990121617 申请日期 1999.10.30
申请人 CARL ZEISS;CARL-ZEISS-STIFTUNG, TRADING AS CARL ZEISS 发明人 SCHUSTER, KARL-HEINZ
分类号 H01L21/027;G02B13/14;G02B13/24;G03B27/32;G03F7/20;(IPC1-7):G02B13/14;G02B17/08 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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