| 发明名称 |
Photoresist and polymer removal by uv laser aqueous oxidant |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG72846(A1) |
申请公布日期 |
2000.05.23 |
| 申请号 |
SG19980002531 |
申请日期 |
1998.07.22 |
| 申请人 |
CHARTERED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING LTD. |
发明人 |
YE JIAN-HUI;LEE YUAN-PING;ZHOU MEI-SHENG;LU YONG FENG |
| 分类号 |
B08B7/00;G03F7/42;H01L21/311;(IPC1-7):B08B7/00;B08B7/04 |
主分类号 |
B08B7/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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