| 发明名称 |
Polishing agent for semiconductor and method for its production |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG72802(A1) |
申请公布日期 |
2000.05.23 |
| 申请号 |
SG19980000751 |
申请日期 |
1998.04.15 |
| 申请人 |
SEIMI CHEMICAL CO LTD. |
发明人 |
AIHARA RYOHEI;ENDOH KAZUAKI;TSUGITA KATSUYUKI |
| 分类号 |
C09C1/68;C09G1/02;C09K3/14;H01L21/3105;(IPC1-7):C09G1/20;H01L21/306 |
主分类号 |
C09C1/68 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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