发明名称 | 黑颜料着色的构造的高分子量材料 | ||
摘要 | 本发明涉及黑色颜料着色高分子量有机材料,它是由射线敏感前体经辐照处理而构造的,该材料的颜料由有色有机颜料构成,其中至少一种在辐照前为隐性形式。该材料优选用作以图案形式沉积在透明底层上的薄层,且可用作例如光学滤色器的黑色基质。本发明还涉及制备该材料的方法,以及可用于本方法的新型黄色双偶氮缩合颜料的可溶性衍生物。 | ||
申请公布号 | CN1252135A | 申请公布日期 | 2000.05.03 |
申请号 | CN98804032.8 | 申请日期 | 1998.03.26 |
申请人 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 发明人 | U·谢德利;E·廷格莱;V·哈尔-古勒;G·德基策尔 |
分类号 | G03C7/12;G03F7/00;G03F7/105;B41M3/00;C09B67/22;C09B67/02 | 主分类号 | G03C7/12 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 魏金玺;王其灏 |
主权项 | 1.一种构造的着色高分子量有机材料,它可通过对射线敏感前体进行辐照获得,其中该射线敏感前体-包含至少一种可转化为有色有机颜料的溶解的颜料衍生物,以及-在至少300~700nm的波长范围的透射率≥10%,优选≥20%,尤其优选≥50%;而且该构造的材料在400~700nm的整个范围,暴露于辐照或未暴露于辐照部位的透射率≤5%,优选≤2%。 | ||
地址 | 瑞士巴塞尔 |