| 摘要 |
Mevcut bulus, asagidaki formül I e sahip, yeni oligomerik organosilikon bilesikleriyle, ki burada, R1, R2, R3 birbirinden bagimsiz olarak H, (C1-C4)alkil, (C1-C4)alkoksi, (C1-C4)haloalkoksi, (C1-C4)haloalkil, fenil, aril veya aralkildir ve, z, 0-6 karbon atomu olan alkilidin radikalini temsil eder, x, 1-6 nin istatistiksel ortalamasi olabilir ve n =1-150 ve ... z nin bir veya diger C atomuna baglanabilecegi ve özellikle serbest boslugun bir hidrojen ile doldurulabilecegi anlamina gelir, ve bunlarin lastik karisimlarinda ve sekillendirilmis nesnelerin üretiminde, özellikle pnömatii lastiklerin kullanimlariyla ilgilidir. |
