首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 PHOTORESIST DEVELOPER AND METHOD OF DEVELOPMENT
摘要
申请公布号 EP0991983(A1) 申请公布日期 2000.04.12
申请号 EP19990915321 申请日期 1999.04.07
申请人 ETEC SYSTEMS, INC. 发明人 TAN, ZOILO, CHENG, HO
分类号 G03F7/30;G03F7/32;G03F7/40;(IPC1-7):G03F7/32 主分类号 G03F7/30
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com