发明名称 受标记用组成物、其模塑造形品以及标记之方法
摘要 本发明系关于一种在施以雷射光束之后会呈现鲜明的白色之受标记用组成物,该组成物中包含了于50℃下不具有流动性的热塑性树脂及至少一种无机材料,选自包括滑石、碳酸钙、氧化铝、黏土、氧化镁、氢氧化铝、矽石、碳酸镁和氢氧化镁,该无机材料的含量是以热塑性树脂重量计之l至300重量%。本发明亦提出此树脂模制物及使用此组成物的标记方法。
申请公布号 TW386999 申请公布日期 2000.04.11
申请号 TW085109973 申请日期 1993.12.22
申请人 化药股份有限公司 发明人 林原昌一;工藤胜;新本昭树;梅山智江
分类号 C08K3/22;C08K3/26 主分类号 C08K3/22
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种于树脂模制物上形成标记的方法,包括将雷 射光束施于树脂模制物上,此模制物是将一种受标 记用组成物模制所得到的,该组成物含有在50℃下 不具有流动性的聚烯烃树脂及至少一种无机材料, 选自包括滑石、碳酸钙、黏土、氢氧化铝、和氢 氧化镁,该无机材料对该聚烯烃树脂之混合比例为 1至300w/w%。2.如申请专利范围第1项之方法,其中该 雷射光束为二氧化碳雷射光束。3.如申请专利范 围第1项之方法,其中该聚烯烃树脂为聚丙烯或聚 乙烯。4.如申请专利范围第1项之方法,其中该无机 材料是滑石、碳酸钙或氢氧化铝。5.如申请专利 范围第1项之方法,其中该聚烯烃树脂是聚乙烯,无 机材料是氢氧化铝,该氢氧化铝对该聚乙烯之比例 为1至15w/w%。6.如申请专利范围第5项之方法,其中 氢氧化铝的含量对聚乙烯之比例为1至10w/w%。7.如 申请专利范围第5项之方法,其中氢氧化铝的比例 为2至5w/w%。8.如申请专利范围第1项之方法,其中该 聚烯烃树脂是聚丙烯,无机材料是滑石或碳酸钙, 该滑石或碳酸钙对该聚丙烯之比例为5至250w/w%。9. 如申请专利范围第8项之方法,其中滑石或碳酸钙 的比例是10至100w/w%。10.如申请专利范围第1项之方 法,其中该聚烯烃树脂是聚丙烯,无机材料是氢氧 化铝,氢氧化铝对聚丙烯之比例为1至15w/w%。11.如 申请专利范围第10项之方法,其中氢氧化铝的比例 是1至10w/w%。12.如申请专利范围第10项之方法,其中 氢氧化铝的比例是2至5w/w%。
地址 日本