磁控溅射耙室装置

摘要

本实用新型公开了一种磁控溅射耙室装置,包括箱式耙室,及其底部安装带胶轮的滚道,耙体上端安装耙盖和固定其上的磁铁包容的金属板构成的耙,耙室内滚道的两侧分别设有由遮板支架和竖遮板,及上部的横遮板组成屏蔽箱,位于滚道上部水平安装屏蔽板,通过其上分布的透孔与胶轮对应,且在横遮板上水平分布设置舌体。具有磁控溅射厚度均匀,成品率可达98%以上,是目前镀膜玻璃理想的磁控溅射耙室设备。

主权项

1、磁控溅射耙室装置，包括箱式耙体，及其底部水平安装带胶轮的滚道，耙室上端安装耙盖和固定其上的磁铁和包容的金属板构成的磁控溅射耙，其特征在于所述耙室(1)内滚道(8)的两侧分别设有由遮板支架(6)和竖遮板(7)及两体上部设置的横遮板(5)组成的屏蔽箱，在两竖遮板(7)上沿滚道(8)上部水平安装屏蔽板(10)，其上分布有与胶轮(9)对应配合的透孔，且在横遮板(5)上水平分布设置舌体(4)。