POLVO DE COBRE DE GRAN AREA SUPERFICIAL Y BAJA DENSIDAD Y PROCEDIMIENTO DE ELECTRODEPOSICION PARA HACERLO

摘要

PROCEDIMIENTO PARA ELECTRODEPOSITAR POLVO DE COBRE USANDO UNA COMBINACION CRITICA DE PARAMETROS. DICHOS PARAMETROS INCLUYEN: a) UNA CONCENTRACION APROXIMADA DE IONES COBRE DE 2 A 7 GRAMOS POR LITRO; b) UNA CONCENTRACION APROXIMADA DE IONES CLORURO LIBRE DE 8 A 20 ppm; c) UN NIVEL DE IMPUREZAS APROXIMADO NO SUPERIOR A 1 GRAMO POR LITRO; d) UNA SOLUCION DE ELECTROLITO QUE ESTA LIBRE DE ADITIVOS ORGANICOS. DICHA ELECTRODEPOSICION SE REALIZA EN UNA PILA DE ELECTROFORMACION EQUIPADA CON UN ANODO Y UN CATODO SUMERGIDOS EN DICHA SOLUCION. EL POLVO DE COBRE OBTENIDO ES DE AREA SUPERFICIAL APROXIMADA DE 0,5 METRO CUADRADO POR GRAMO, DE DENSIDAD APARENTE APROXIMADA DE 0,20 A 0,60 GRAMO POR CENTIMETRO CUBICO, TAMANO DE PARTICULA MEDIO APROXIMADO DE 5 A 50 MICRAS Y UN CONTENIDO DE COBRE APROXIMADO DE 99% EN PESO. ADICIONALMENTE SE ADHIERE UNA CANTIDAD EFECTIVA DE UN ESTABILIZANTE, DE PREFERENCIA TRIAZOL, A LA SUPERFICIE DEL POLVO DE COBRE PARA REDUCIR LA OXIDACION Y AUMENTAR LA DURACION EN ALMACENAMIENTO