发明名称 维持稳定的自沉积浴的装置
摘要 一种能从化学浴中定期地除去金属离子和污染物的自动化系统,其中包括一台微处理机,它可控制泵和阀门的流动回路,首先将第一份预定数量的化学浴从第一槽中循环流过一个离子交换柱并回到第一槽;再将去离子水从第二槽循环进入IEX柱以便顶替走其中的残留化学浴,使其回到第一槽;将去离子水循环流过IEX柱;将再生剂酸经过离子交换树脂循环;将去离子水经过IEX柱循环,以便冲洗其中的酸再生剂;将化学浴循环送入IEX柱中,顶替走其中残留的冲洗水,为化学浴的处理循环作准备。
申请公布号 CN1050523C 申请公布日期 2000.03.22
申请号 CN94191015.6 申请日期 1994.01.13
申请人 亨凯尔公司 发明人 W·G·科泽克;J·C·托平
分类号 B01D15/04 主分类号 B01D15/04
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 徐汝巽
主权项 1.一种至少定期地从化学浴中除掉金属离子和污染物的自动化系统,所述的化学浴是一种含有带电胶乳粒子的胶乳溶液,它具有可通过自沉积形成涂层的酸性pH值,所述带电胶乳粒子在经受高剪切循环时趋于聚结,该系统包括:装有该化学浴的第一槽;一个离子交换(IEX)柱,其中装有用于从化学浴中除去金属离子污染物的含亚氨基二乙酸酯的离子交换材料;响应第一控制信号的第一循环装置,用于从第一槽中抽吸化学浴,使其低速通过上述IEX柱,并将处理过的化学浴从IEX柱送回到第一槽,所述第一循环装置包括低剪切循环上述化学浴的装置,从而可以基本上防止所述胶乳颗粒的聚结;位于第一槽内化学浴中的第一个电导率测定装置,用于提供指示化学浴电导率的第一电导率信号;浸在经IEX柱处理后送返到第一槽的化学浴的第二电导率测定装置,用于提供指示处理过的化学浴的电导率的第二电导率信号;程序编制成第一操作状态的控制器,用于周期性产生第一控制信号,在所形成的化学浴循环期间,探测第一和第二电导率信号之间的差别减小到预定的最小值,用于终止第一控制信号,以便关掉第一循环装置。
地址 美国宾夕法尼亚