发明名称 METHOD FOR VACUUM DEPOSIT ON A CURVED SUBSTRATE
摘要 De manière connue en soi, il s'agit de provoquer le dépôt, sur le substrat courbé (10) à traiter, d'une couche de matériau en provenance d'une source d e matériau (13) donnée. Suivant l'invention, on interpose, entre le substrat courbé (10) et la source de matériau (13), un cache (19) fixe par rapport au substrat courbé (10), en choisissant, préférentiellement, pour cache (19), u n cache comportant une partie annulaire (20). Application, notamment, au traitement antireflet des verres de lunettes.
申请公布号 CA2341608(A1) 申请公布日期 2000.03.16
申请号 CA19992341608 申请日期 1999.09.02
申请人 ESSILOR INTERNATIONAL - COMPAGNIE GENERALE D'OPTIQUE 发明人 KELLER, GERHARD;COMBLE, PASCAL;MOUHOT, FREDERIC
分类号 C23C14/24;C23C14/04;(IPC1-7):C23C14/04 主分类号 C23C14/24
代理机构 代理人
主权项
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