发明名称 SYSTEM FOR EVACUATING MATERIAL REMOVED BY A LASER SOURCE DURING MACHINING OF A SURFACE TO BE MACHINED
摘要 Anordnung zum Entfernen von Material, das durch eine Laserstrahlungsquelle bei der Materialbearbeitung von einer Bearbeitungsfläche (81) abgetragen wird. Die Anordnung besteht aus einem zylindrischen Körper, der zwischen dem Ausgang der Laserstrahlungsquelle und der Bearbeitungsfläche angeordnet ist und der zwei Stirnseiten aufweist, von denen eine der Bearbeitungsfläche (81) und die andere der Laserstrahlungsquelle zugewandt ist. In dem zylindrischen Körper ist eine durch beide Stirnseiten durchtretende, durchgehende Öffnung (207) für die Laserstrahlung vorgesehen, wobei die Stirnseite, an der die Laserstrahlung austritt, nahe an die Bearbeitungsfläche (81) herangeführt wird. Seitlich ist an der Anordnung, nahe der Stirnseite, an der die Laserstrahlung austritt, mindestens eine weitere seitlich angebrachte Öffnung (213) vorhanden, die auf die durchgehende Öffnung (207) trifft und die an eine Vakuumpumpe angeschlossen ist.
申请公布号 WO0013841(A1) 申请公布日期 2000.03.16
申请号 WO1999DE02451 申请日期 1999.08.05
申请人 HEIDELBERGER DRUCKMASCHINEN AG;JUERGENSEN, HEINRICH 发明人 JUERGENSEN, HEINRICH
分类号 B23K26/14;(IPC1-7):B23K26/14 主分类号 B23K26/14
代理机构 代理人
主权项
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