| 发明名称 |
APPARATUS FOR PHOTORESIST COATING OF SEMICONDUCTOR WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR100246339(B1) |
申请公布日期 |
2000.03.15 |
| 申请号 |
KR19970013372 |
申请日期 |
1997.04.11 |
| 申请人 |
HYUNDAI MICRO ELECTRONICS CO.,LTD. |
发明人 |
NA, YOUNG SUP |
| 分类号 |
H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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