| 发明名称 |
LOWER PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (LPCVD) |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR200173020(Y1) |
申请公布日期 |
2000.03.02 |
| 申请号 |
KR19960060575U |
申请日期 |
1996.12.28 |
| 申请人 |
HYUNDAI ELECTRONICS IND. CO.,LTD |
发明人 |
RYU, DOO-YEOL |
| 分类号 |
H01L21/20;(IPC1-7):H01L21/20 |
主分类号 |
H01L21/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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