制备类金刚石薄膜的电化学沉积方法及其装置

摘要

一种制备类金刚石薄膜的电化学沉积方法及其装置，该装置包括容纳无水甲醇的沉积池、高频脉冲直流高压电源、高纯石墨阳极、温控计、磁力加热搅拌器、输液泵、调节阀、蓄池、输液管及装有分子筛吸附剂的色谱柱，阴极为待镀的Ｓｉ片，极间距离为１０ｍｍ，极间施加１０００～２０００Ｖ高频脉冲直流高压，脉冲频率５～１０ＫＨｚ，占空比８０％，高纯无水甲醇为电沉积液体，沉积温度５０～６０℃；这种薄膜的制备设备简单，反应条件易控制，基片选择范围宽，成膜均匀性好，应用前景好。

主权项

1.一种制备类金刚石薄膜的电化学沉积方法，其特征在于沉积前，作为基片的Si片先放在氢氟酸溶液中浸泡30分钟，以去除表面的SiO2之类氧化物，然后在甲醇液体中用超声波处理20分钟，去除表面的杂质；采用高纯石墨作为阳极，阴极为待镀的Si片，极间距离为10mm，极间施加1000～2000V高频脉冲直流高压，脉冲频率5～10KHz，占空比80％，高纯的无水甲醇为电沉积液体，沉积温度50～60℃，将沉积过程中产生的水用色谱柱中的分子筛吸附，所得的无水甲醇再通过输液泵送回沉积池。