| 发明名称 |
Process for fabricating a layer having reduced strain |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0663692(B1) |
申请公布日期 |
2000.02.23 |
| 申请号 |
EP19940120791 |
申请日期 |
1994.12.27 |
| 申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
BIEBL, MARKUS |
| 分类号 |
H01L21/20;B81B3/00;G01L9/00;H01L21/314;(IPC1-7):H01L23/00;G01L21/00 |
主分类号 |
H01L21/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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