通过离子交换法来减少含有机极性溶剂的抗光蚀剂组合物中的金属离子污染物的方法

摘要

本发明提供了一种利用清洗的阳离子交换树脂和阴离子交换树脂来制备具有甚低金属离子污染物的抗光蚀剂组合物的方法,其中所述抗光蚀剂组合物包含极性溶剂。还提供了一种使用该抗光蚀剂组合物制造半导体设备的方法。

主权项

1.一种用于制备抗光蚀剂的方法，其中包括：a)用水洗涤阳离子交换树脂，用无机酸溶液洗涤所述阳离子交换树脂，然后用水洗涤所述阳离子交换树脂，这样可将钠离子和铁离子在阳离子交换树脂中的含量降低到100PPB以下；b)用水洗涤阴离子交换树脂，用无机酸溶液洗涤所述阴离子交换树脂，再次用水洗涤所述阴离子交换树脂，用氢氧化铵洗涤所述阴离子交换树脂，然后再次用去离子水洗涤，这样可将钠离子和铁离子的总含量降低到100PPB以下；c)将感光剂和成膜树脂溶解在抗光蚀剂溶剂中，得到抗光蚀剂组合物；d)向步骤c)的抗光蚀剂组合物中加入包含有机极性溶剂的溶剂；e)将步骤d)的抗光蚀剂组合物通过步骤a)的阳离子交换树脂，然后将步骤d)的所述抗光蚀剂组合物通过步骤b)的阴离子交换树脂；f)去除包含有机极性溶剂的溶剂，这样可得到钠离子和铁离子的含量分别低于100PPB的抗光蚀剂组合物。