| 主权项 |
1.一种具有下式化学式之化合物: 其中R是氢,C1-C4-烷氧基; R1和R2互不相关的分别为氢,-C(=O)-R4(其中R4是C1-C20 烷基,由1至6个氧原子所中断之C1-C10烷基,C15-C20烯 基,C1-C10-烷氧基);及R3是氢,羟基,C1-C10烷基,C1-C4烷 氧基,苯基。2.如申请专利范围第1项之化合物,具 有如下之化学式: 其中R是氢或C1-C4烷氧基,R1和R2中的任一个是氢,或R 1是氢及R2是-C(=O)-R4,其中R4是C1-C20烷基,C15-C20烯基,C 1-C10烷氧基,或是CH2-(OCH2CH2)n-OCH3,其中n是一从1至5 的整数;及R3是氢,C1-C10烷基,羟基,C1-C4烷氧基或苯 基。3.如申请专利范围第2项之化合物,其中R是氢 或甲氧基;R1和R2中的任一个是氢,或R1是氢,及R2是 -CO-CH2-(OCH2CH2)n-OCH3其中n是一从1至5的整数;及R3是 氢,C1-C20烷基,羟基,甲氧基或苯基。4.如申请专利 范围第1项之化合物,具有如下之化学式: 其中R1和R2分别是氢,或R1是氢及R2是-C(=O)-R4,其中R4 是C1-C20烷基,C15-C20烯基,C1-C10烷氧基,或是CH2(OCH2CH2) nOCH3,其中n是一从1至5的整数;及R3是氢,羟基,C1-C10 烷基,甲氧基或苯基。5.如申请专利范围第4项之化 合物,其中R1和R2中的任一个是氢,或R1是氢,R2是-CO- CH3;及R3是氢,甲氧基或苯基。6.一种组成物,包括: (A)一对于光、氧及/或热导致降解是敏感之有机物 质,及 (B)当作稳定剂之如申请专利范围第1至2项中任一 项的化合物。7.如申请专利范围第6项之组成物,包 括从0.01至15份重量的成份(B)(每100份的重量的成份 (A))。8.如申请专利范围第6或7项之组成物,除了成 份(A)和(B)外,另外包括一种或多种稳定剂或其它添 加剂。9.如申请专利范围第6项之组成物,包括当作 成份(A)之合成有机聚合物。10.如申请专利范围第6 项之组成物,包括当作成份(A)之一热塑性聚合物, 涂覆物黏合剂或照像物质。11.如申请专利范围第8 项之组成物,包括一当作成份(A)之用于涂覆物的黏 合剂,及当作其它成份(C)之一种或多种选自立体位 阻胺及/或2-羟基苯基-2H-苯并三唑型式稳定剂之稳 定剂。12.如申请专利范围第11项之组成物,其中成 份(C)的存在量为0.05至5份重量(每100份重量的黏合 剂)。13.如申请专利范围第6项之组成物,其中该对 于光、氧及/或热是敏感之有机物质是一未经染色 ,经染色或印刷的纤维物质。14.一种增加纺织纤维 物质阳光保护系数的方法,包括在水溶液或有机水 溶液中,于该纤维物质上施用一如申请专利范围第 1至5项中任一项的化合物,然后固着该化合物。15. 一种化妆品组成物,包括至少一如申请专利范围第 1至5项中任一项的化合物,及一化妆品上可接受的 辅助剂。16.一种稳定有机物质抵抗光、氧及/或热 损害的方法,包括在该物质中加入一含一种或多种 如申请专利范围第1至5项中任一项化合物之稳定 剂。17.如申请专利范围第1至5项中任一项的化合 物,其是用于人类皮肤的阳光保护筛。18.一种制备 如申请专利范围第1项之式(1A)化合物的方法,包括: 一下式之邻-羟基苯甲醯胺: 其中R具有如申请专利范围第1项中所定义者,和一 苯甲醯氯化物反应制备: 其中R3具有如申请专利范围第1项中所定义者,以产 生一下之化合物: 其中R和R3具有如先前定义者;然后式(6)化合物和一 下式之苯甲反应: 其中R,R1和R2具有如申请专利范围第1项中所定义者 ,以产生一式(1A)的化合物。19.一种制备如申请专 利范围第1项之式(1A)化合物的方法,包括:一如申请 专利范围第18项之式(4)之邻-羟基苯甲醯胺和一下 式之对-硝基-苯甲醯氯化物反应: 其中R3具有如申请专利范围第1项中所定义者,以产 生一下式之化合物: 其中R和R3具有如申请专利范围第1项中所述之定义 者,然后式(9)化合物和一下式之苯甲反应基: 其中R是如申请专利范围第1项之定义者,以产生一 下式的化合物: 其中R和R3具有如申请专利范围第1项中所述之定义 者,最后再氢化式(11)化合物,以产生式(1A)化合物。 20.一种制备如申请专利范围第1项之式(1)或(1A)化 合物的方法,包括:一如申请专利范围第18项之式(4) 之邻-羟基苯甲醯胺可和一下式之对-醯基胺基苯 甲醯氯化物反应: 其中R3和R4具有如申请专利范围第1项所述之定义 者,以产生一下式之化合物: 其中R,R3和R4具有如申请专利范围第1项所述之定义 者,最后反应一式(13)化合物和一式(10)化合物,以产 生一下式之化合物: 其中R,R3和R4具有如申请专利范围第1项所述之定义 者。21.一种下式之化合物: 其中R和R3是如申请专利范围第1项中所定义者。22. 一种制备如申请专利范围第21项之式(6)化合物的 方法,包括一下式的邻-羟基苯甲 其中R是如申请专利范围第1项中所定义者,和一下 式之苯甲醯氯化物反应: 其中R3是如申请专利范围第1项所定义者,以生产一 式(6)化合物。23.一种具有下式(9)的化合物: 其中R和R3是如申请专利范围第1项中所定义者。24. 一种制备如申请专利范围第23项之式(9)化合物的 方法,包括反应一如申请专利范围第18项之式(4)邻- 羟基苯甲和一下式之对-硝基-苯甲醯氯化物 其中R3是如申请专利范围第1项中所定义者,以产生 一式(9)化合物。25.一种具有化学式(13)的化合物: 其中R,R3和R4是如申请专利范围第1项中所定义者。 26.一种制备式(13)化合物的方法,包括反应一如申 请专利范围第18项之式(4)邻-羟基苯甲和一下式 之对-醯胺基苯甲醯氯化物 其中R3和R4是如申请专利范围第1项中所定义者,以 产生一式(13)化合物。 |
