| 发明名称 |
Verfahren zur Beschichtung mittels MOCVD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE69419583(T2) |
申请公布日期 |
2000.01.20 |
| 申请号 |
DE1994619583T |
申请日期 |
1994.11.04 |
| 申请人 |
SONY CORP., TOKIO/TOKYO |
发明人 |
TODA, ATSUSHI;ASANO, TAKEHARU |
| 分类号 |
C23C16/30;C30B25/02;H01L21/205;H01L21/365;H01L33/00;H01L33/06;H01L33/28;H01L33/30;H01L33/40;H01S5/00 |
主分类号 |
C23C16/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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