Método para construir um cabeçote de impressão de jato de fluido, cabeçote de impressão para ejetar fluido e máscara de nìvel multidensidade.

摘要

"MéTODO PARA CONSTRUIR UM CABEçOTE DE IMPRESSãO DE JATO DE FLUIDO, CABEçOTE DE IMPRESSãO PARA EJETAR FLUIDO E MáSCARA DE NìVEL MULTIDENSIDADE". Processo para criar e um aparelho empregando orifícios conformados em um substrato semi-condutor (20). Uma camada de material de reticulação lenta (34) é aplicada sobre o substrato semicondutor (20). Uma imagem de orifício (42) e uma imagem de depósito de fluido (43) são transferidas para a camada de material de reticulação lenta (34). Aquela porção da camada de material de reticulação lenta (34) onde a imagem de orifício (42) está localizada é então revelada junto com aquela porção da camada de material de reticulação lenta (34) onde a imagem de depósito de fluido (43) é colocada para definir uma abertura de orifício no substrato semicondutor (20).