| 摘要 |
<p>반도체 장치 제조장치의 배관내에 부착된 유기물을 높은 청정도로 제거할 수 있는 배관내 클리닝 방법을 제공하고자 하는 것이다. 배관 (1) 내에 고순도 Ar (3) 에 1 % 내지 5 % 의 O(4) 를 첨가하여 이루어지는 클리닝 가스를 공급하면서, 배관을 가열한다. 분자 크기가 큰 Ar 을 이용함으로써 배관내의 유기물 (2) 을 날려 배관 밖으로 클리닝 가스와 함께 배출할 수 있다. 고순도 Ar (3) 에 첨가된 1 % 내지 5 % 의 O에 의해, 가열되어 있는 배관 내에서 유기물이 연소반응을 일으켜 CO, CO, 또는 HO 가 되어 배출된다. 그 결과, 배관 내의 유기물 제거를 효율적으로 실시할 수 있다.</p> |
