| 发明名称 |
METHOD FOR CLEANING WAFER BEFORE THERMAL PROCESS BASED ON SC-2 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11340175(A) |
申请公布日期 |
1999.12.10 |
| 申请号 |
JP19990104118 |
申请日期 |
1999.04.12 |
| 申请人 |
HARRIS CORP |
发明人 |
LINN JACK;ROUSE GEORGE;RAFIE SANA;NOLAN-LOBMEYER ROBERTA;HACKENBERG DIANA LYNN;SLASOR STEVEN;VALADE TIMOTHY |
| 分类号 |
H01L21/304;H01L21/306;H01L21/316;(IPC1-7):H01L21/304 |
主分类号 |
H01L21/304 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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