发明名称 Contact exposure method
摘要 <p>본 발명은 마스크에 손상을 입히지 않고, 또한 워크(work)를 파손시키지 않는 콘택트 노광(露光)방법을 제공하고자 하는 것이다. 마스크 스테이지(mask-stage;MS)와 워크 스테이지(work-stage;WS)의 사이에 백업링(back-up-ring;10)등을 형성하여 워크 스테이지(WS)와 마스크 스테이지(MS)를 소정 거리 떨어뜨린다. 그리고 마스크(M), 워크(W)를 진공흡착 등에 의해 각각 마스크 스테이지(MS), 워크 스테이지(WS)에 고정시키고, 마스크(M)와 워크(W) 사이의 공간을 감압한다. 워크 스테이지(WS)와 마스크 스테이지(MS)는 소정 거리로 떨어져 있기 때문에, 감압했을 때 마스크(M)는 휘어지지만, 마스크(M)와 워크(W)는 접촉하지 않고, 양자 사이에 갭(D)이 형성된다. 이 상태에서, 압축기(12)로부터 공기를 워크 스테이지(WS)의 구멍(5)에 공급하고, 워크(W)를 부상(浮上)시켜 마스크(M)와 워크(W)를 밀착시키고, 노광을 행한다.</p>
申请公布号 KR19990083568(A) 申请公布日期 1999.11.25
申请号 KR19990015246 申请日期 1999.04.28
申请人 null, null 发明人 마츠키도시유키;다나카요네타
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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