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经营范围
发明名称
Plasma treatment method and apparatus
摘要
申请公布号
EP0512677(B1)
申请公布日期
1999.11.24
申请号
EP19920302728
申请日期
1992.03.27
申请人
HITACHI, LTD.
发明人
KUMIHASHI, TAKAO;TSUJIMOTO, KAZUNORI;TACHI, SHINICHI;KANETOMO, MASAFUMI;KOBAYASHI, JUNICHI;USUI, TATEHITO;MISE, NOBUYUKI
分类号
C23F4/00;H01J37/32;H01L21/02;H01L21/205;H01L21/22;H01L21/285;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/311;H01L21/3213;(IPC1-7):H01J37/32
主分类号
C23F4/00
代理机构
代理人
主权项
地址
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